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LectroPol-5 是 Struers 全自动电解抛光和蚀刻设备,由控制单元和抛光单元组成,两个单元可彼此分离。设备适用于金相试样的电解抛光和蚀刻,具备扫描功能、方法库和温度监控等智能化功能。
扫描功能与参数自动测定
LectroPol-5 支持扫描功能,在用户选择和设置电压时显示扫描曲线。通过对样品材料进行单次扫描即可查找正确设置,无需进行耗时的试验操作和错误参数测试,显著节省时间并避免人为错误。
方法库与可再生产性
设备附带适用于各种材料的 10 种抛光/蚀刻方法,支持即时制备各种材料,无需冗长试验。用户可在此基础上开发适用于其他材料的方法,数据库可存储 20 种用户定义方法。微处理器控制和数据库功能确保使用正确参数,集短制备时间和高可再生产性于一体。
单元分离设计
控制单元包括电源、编程和监视功能,采用便捷的触摸板操作,结合所有参数的背光图形显示和流程监视功能。抛光单元可独立于控制单元放置,例如放置在通风柜中,也可直接从抛光单元开始流程。电解液存储在易于更换的电解液容器中,插入抛光单元即可使用。
温度监控与**
LectroPol-5 内置测量和控制系统,可持续监视电解液温度。如果温度超过给定限值,水会在冷却管中流动。如果没有连接水流,或电解液温度继续上升,则会显示警告并自动关闭设备。**软件控制所有功能,不间断监视电压和电流,使各项设置保持在设备限制范围内。对于需要在零度以下环境中抛光的材料,可配备专用抛光单元,不锈钢冷却管直接连接到外部冷却单元,管理温度控制和电解液调节。
外部蚀刻功能
LectroPol-5 也可用于外部蚀刻,由预设的电压暴露和抛光时间控制。
标配范围
设备配备控制单元、抛光单元和外部蚀刻单元,包含一套面罩以及两个电解液容器。
应用领域
适用于金相试样的自动化电解抛光和蚀刻,尤其适合需要快速质量控制和可重复制备结果的实验室及工业环境。
参数表
| 参数项 | 规格/说明 |
|---|---|
| 产品型号 | LectroPol-5 |
| 设备类型 | 微处理器控制全自动电解抛光和蚀刻设备 |
| 控制方式 | 微处理器控制,触摸板操作,背光图形显示 |
| 扫描功能 | 支持,显示扫描曲线,自动测定电压 |
| 内置方法数量 | 10 种抛光/蚀刻方法 |
| 用户定义方法存储 | 20 种 |
| 单元组成 | 控制单元、抛光单元、外部蚀刻单元 |
| 电解液容器 | 2 个,易于更换,插入抛光单元 |
| 温度监控 | 持续监视,超过限值自动水冷,无水流或继续升温则警告并关闭 |
| 外部冷却单元连接 | 支持(专用抛光单元,不锈钢冷却管) |
| 外部蚀刻 | 支持,预设电压暴露和抛光时间控制 |
| **功能 | 温度监控、电压/电流监视、自动关闭 |
| 标配附件 | 面罩、2 个电解液容器 |
| 电源、电压范围、尺寸、重量等 | 页面未公开 |
核心卖点
扫描功能,自动测定参数
LectroPol-5 支持扫描功能,在设置电压时显示扫描曲线,单次扫描即可确定合适参数,避免耗时试验和人为错误,提升效率。
方法库与用户自定义,确保可再生产性
内置 10 种方法覆盖各种材料,支持存储 20 种用户定义方法。微处理器控制确保使用正确参数,实现短制备时间和高可再生产性。
控制单元与抛光单元分离,操作灵活
控制单元和抛光单元可彼此分离,抛光单元可独立放置在通风柜中,并可直接从抛光单元启动流程,适应不同实验室布局。
温度监控与自动冷却,**可靠
持续监视电解液温度,超过限值自动水冷;无水流或温度继续上升时自动警告并关闭设备,确保操作**。
支持外部蚀刻,功能**
设备除电解抛光外,还可用于外部蚀刻,由预设电压和抛光时间控制,满足金相制备的多种需求。
制备时间短,适合快速质量控制
相比普通机械制备,电解抛光和蚀刻流程时间更短,结合高可再生产性,是快速质量控制场景的理想选择
联系电话:杨经理:18566647778
周经理:15220158886
陈经理:18811883520
公司地址:广东省 深圳市 龙华区 龙华街道 梅龙大道906号创业楼4楼
